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半導体 関連製品一覧

コーティング装置

オスミウムコーティングシステム(Tennant 20)

新オスミウムコーティングシステム(Tennant 20)

オートモード搭載し、より使いやすくなった新オスミウムコーター

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ネオオスミウムコータ (Neoc-Pro)

Neoc-Pro ネオオスミウムコータ

粒状性のない導電性薄膜を作製し、熱・電子線ダメージなく観察

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カーボンコータ
(CADE)

親水化処理機能付カーボンコータ (CADE-E)

超高純度(99.995%)炭素ファイバー使用で不純物のない分析

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高性能スパッタコーター
(DSR1)

高性能スパッタコーター (DSR1)

自動制御で再現性・信頼性の高いコーティング(膜厚計、サンプル回転付き)

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高真空スパッタコーター
(DST1-170)

高真空スパッタコーター(DST1-170)

ターボ分子ポンプ、膜厚計、サンプル回転を搭載

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熱蒸着機付き 卓上パルスレーザーデポジションシステム (PLD-T)

熱蒸着機付き 卓上パルスレーザーデポジションシステム (PLD-T)

パルスレーザー蒸着と熱蒸着技術の両方で様々な材料を蒸着可能

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熱蒸着機
(DTT)

熱蒸着機(DTT)

薄膜を真空蒸着するためのターボ分子ポンプ式熱蒸発機

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プラズマソフトエッチング・クリーニング・親水化処理

ソフトプラズマエッチング装置 (SEDE)

ソフトプラズマエッチング装置 (SEDE)

親水化・クリーニングをダメージなく処理、PDMSも簡単に接着

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UVオゾンクリーナー plus (PC-450)

親UVオゾンクリーナー plus (PC-450)

省スペース(B5サイズ以下)・リーク不要・簡単操作!

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超薄膜測定 エリプソメーター

マルチスペクトル・
エリプソメーター(FS-1)

マルチスペクトル・エリプソメーター (FS-1)

特許取得の新MWE技術で分光エリプソメトリー解析を実現

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自動膜厚マッピングモデル
(FS-XY150/FS-RT300)

親UVオゾンクリーナー plus (PC-450)

自動測定&解析で迅速な膜厚マッピングが可能

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In Situ エリプソメーター
(FS-IS1)

プラズマクリーニング装置 (PC-2000)

コーターやエッチング装置に搭載・In Situでリアルタイム計測

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局在表面プラズモン共鳴解析システム

液相測定用チャンバー
(XNanoⅡ)

液相測定用チャンバー
(XNanoⅡ)

液相で極低分子の吸脱着、分子の構造変化の定量フロー測定ができます。

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気相測定用チャンバー
(X1)

気相測定用チャンバー
(X1)

高温中でのガス吸着測定、触媒反応のリアルタイム詳細解析に。 

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QCM-D同時測定仕様(Acoulyte)

 Acoulyte局在プラズモン解析システム (QCM-D同時測定仕様)

QCM-D + LSPR で計測・解析でき、複雑な表面や薄膜プロセスを解明。

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プラズモニックセンサー

プラズモニックセンサー

局在表面プラズモン共鳴(LSPR)を応用した超高感度センサー。

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超純水 TOC 計

全有機炭素アナライザー
(TOC matic )

多機能制御シリンジポンプシステム

小型で新しい高感度オンラインTOCアナライザー

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