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TIRI クロスミーティング 2019にて
講演を行います

2019年 5 月 17日
メイワフォーシス株式会社

 2019 年 7 月 4 日(木)~ 5 日(金)に都立産業技術研究センターにて開催される「TIRI クロスミーティング 2019」にて講演を行います。 弊社は 2018 年8 月より新規製品の開発および既存製品改良のための技術開発、品質保証データの取得のため、都立産業技術研究センターの製品開発支援ラボに入居しテクノロジーラボを開設いたしました。 このたびの講演では、これまでに得られたデータをもとにSEM観察に関わる皆様に有用な情報をご提供できればと考えております。皆様のご来場を心よりお待ちしております。   

講演題目:走査型電子顕微鏡によるオスミウム導電薄膜の性能評価

走査型電子顕微鏡観察における前処理工程として重要な、導電被膜形成における被膜材料や処理条件がもたらす観察結果の違いについて、高倍率の観察結果をもとにご説明いたします。

日時: 2019 年 7 月 5 日 (金) 15 : 40 ~ 16 : 00
発表者: メイワフォーシス株式会社 望月 麻央
会場: (地独)東京都立産業技術研究センター 本部(東京都江東区青海2-4-10)
参加費: 無料

【トピックス】
・オスミウム導電薄膜(CVD)とスパッタリング金属膜(PVD)との成膜差
・オスミウム導電被膜形成における負グロー領域内と陽光柱領域内でのSEMによる膜質比較

 

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