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PE-2000は、1台でエッチング機能とクリーニング機能の2台分の機能があります。 高効率RF方式と低電圧バイアス制御により、ダメージフリーエッチングが可能です。 また、電顕観察時に邪魔になるコンタミの予防、クリーニングも可能です。 |
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◎オプションのクリーナー用ベルジャーを使用し、電顕観察前のクリーナーとしても使用できます。 |
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| この装置はパテントを取得した、アルゴンヌ国立研究所のDr.Nestor J.Zaluzecとライセンス契約を結び、製品化した装置です。 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| プラズマエッチング | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
| RFプラズマ放電方式と低電圧制御により、試料表面にダメージを与えずにエッチングが可能です。 電子顕微鏡試料作製過程において、できてしまったアモルファス層の除去にも有効です。 本装置においてエッチングする材質は問いません。あらゆる試料が処理できます。 導入ガスも試料材質により、不活性ガスから活性ガスまで使用可能です。 |
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| ●エッチング処理サンプル例1 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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左の写真は、割断後の特殊ゴムにステン細線が埋め込まれているのですが、ゴムの突起が邪魔でステンの埋め込み形状がよく観察できません。 そこでO2を使用し、邪魔なゴムだけをエッチングしました。 |
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エッチング処理前 |
O2エッチング処理後 |
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| ●エッチング処理サンプル例2 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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左の写真も特殊ゴムですが、アルゴンガス処理によって割断後の試料表面の荒れが取れて観察が可能になりました。 |
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| 写真ご提供：東北大学 多元物質科学研究所 柴田様 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
●Ar,O2ガスだけでなく、半導体試料にはCF4、アルミ等にはBCｌ3+Cl2等の活性ガスを各種試料に応じて選択でき、 ●高効率RFプラズマ法と低電圧バイアス制御により、イオンシニングや電解研磨等でできたアモルファス層をダメー ●DCバイアスは、0～150Wまで無段階に調節可能で、処理時間の設定も0～99時間まで可能です。 ●独立したベントポートを装備し、処理後大気導入ではなく窒素ガス等の導入も可能です。 ●フォトレジストストリップ、酸化膜や窒化層の除去エッチング、プラスティックの表面処理、プラズマクリーニング等 |
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| プラズマクリーニング | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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| オプションの金属ベルジャーを使用することによって、電子顕微鏡による超高倍率観察時の妨げになるコンタミ（ハイドロカーボン）の除去、予防が可能です。 ベルジャー径が大きいので、TEM用試料ホルダーの他、ピンセット等の周辺機器も一緒に処理可能です。 |
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| ●プラズマクリーニング処理例 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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左の写真は、高分解能TEMにより撮影したものです。 A・B共高電圧ビームにより、ハイドロカーボンが付着し、観察不可能となりました。 この試料をアルゴンガス単独でプラズマ処理後、さらに酸素プラズマ処理しました。 Cの照射位置には、全くハイドロカーボンは付着しません。 このことから、有機物（ハイドロカーボン）の予防にはアルゴンと酸素プラズマおのおの単独での処理が最適です。 |
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写真ご提供：東北大学 多元物質科学研究所 |
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●オプションの金属ベルジャーには、最大3本までTEM用試料ホルダー ●各社電子顕微鏡用ホルダーエントリーを取り揃えております。 ●真空排気装置はロータリーポンプの他、オイルフリーポンプ、ターボ ●試料の種類や使用するガスに応じて放電電力を調節でき、試料に |
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| ターボモレキュラーポンプ標準装備の高真空処理タイプ のRIE-2000もございます。（リアクティブ イオン エッチャー） |
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| アクセサリー及びパーツ | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
●各社電子顕微鏡試料ホルダーに適するエントリーアダプターを用意しております。 ●TEM観察までの間、クリーニング後のサンプルを真空状態で保持できる、「真空保持コンテナ」 |
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| 仕 様 | |||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
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