負グロー層領域が格段に拡大されました。
高さ約30�oの負グロー層によりかなり大きな背の高い試料でも均一で安定した条件でオスミウム金属被膜のコーティングが可能です。
対向型電極で見られたように、試料位置による蒸着の不均一性がなく、ステージ全面が高純粋のオスミウム金属がコーティングできる負グロー層領域になっています。

オスミウムプラズマ製膜法とは！？

真空チャンバー内に四酸化オスミウム昇華ガスを導入し、直流グロー放電をさせます。

この時、特に陰極上の負グロー層と呼ばれる領域では、オスミウム陽イオン化ガス分子が濃縮し、激しく衝突し合います。

このことによって、陰極上に置かれた試料表面に、純粋なオスミウム金属導電被膜が堆積形成されます。

しかし従来の対向型電極では、負グロー層領域が高さ5�o程度と極めて狭い領域となり、不均一な膜厚となります。

回り込み
昆虫や毛細血管レプリカ、高分子繊維、粉体など凹凸のある複雑な構造をした試料のコーティングに最適です。
試料細部にまで行き届くように導入されたオスミウムガスが、瞬時に金属被膜化されますので、均一な厚みの膜が試料表面全域に回りこみ良く形成致します。

粒状性
このオスミウムの薄膜は完全な非晶質（アモルファス）ですので、数十万倍の高倍率SEM観察においても粒状性は全く認められません。

チャージアップ
純粋な金属オスミウムは導電性に優れ、二次電子放出効率も良好です。
試料表面全体に薄く均一にムラなくコーティングすることにより、チャージアップのない極めて鮮明なSEM像の観察が可能です。

熱ダメージ
オスミウムコーターは抵抗加熱式やスパッターコーターのように、蒸発源からの輻射熱でしりょうが熱ダメージを受けることはありません。
また、コーティング時間もわずか数秒で観察に充分な被膜が試料表面に形成できます。
電極形状と回路の工夫により、単位面積当たりの印加電流値も大幅に軽減させることに成功しました。

電子線ダメージ
負グロー層領域で形成された高純度オスミウム金属被膜は、電導性や耐熱性に優れ、SEMの高倍率観察での強い電子線照射に対してもダメージを受けることがほとんどありません。

試料ご提供　 岡山大学大学院歯学総合研究科
　　　　　　　　　人体構成学教室

純粋なOS被膜はたとえ10万倍の

電子線にさらされても壊れません。

・φ10�oのSEM試料台なら42個が装填可能で、一度に大量の処理ができます。

・湾曲内面の広さ約100c�u、高さ約3�pが有効領域で、この領域内であれば
　高純度のオスミウムコーティングが可能です。

・研究内容、実験条件により対応可能な高品位昇華筒と標準昇華筒の2種類を
　用意しています。

・四酸化オスミウムアンプルは本体にセットした状態で割れる機構になっており
　安全です。

・多重密閉式構造になっていますので、OsO4ガスの漏れは全くありません。

・使用後冷凍庫での保管ができます。

・ガラス窓からオスミウム残量が確認できます。

・四酸化オスミウムの結晶は、温度によって変化するので取り扱いに注意が必
　要です。
　アンプルに金属のテープを貼り、薬剤を封入する時の熱の伝導を防ぎ、変色
　を防止しています。