純粋なOs被膜がコーティングされるのは負グロー層領域のみです。

●特殊電極により、良質のオスミウムがコーティングされます。又、
　 負グロー層領域が格段に拡大されました。
●試料に熱ダメージがほとんどありません。
●複雑な構造の試料でも非常に回り込み良くコーティングでき、
　 チャージアップしません。
●コーティング被膜の粒状性が認められないので、高倍率での観察
　 に最適です。

サンプルセットから蒸着までわずか５分！

●親水化処理機能付き
●蒸着源には分析用黒鉛ファイバー（炭素純度99.995%）を使用。
　 不純物がなく、元素分析においても確かな結果を得られます。
●EPMA、レプリカ抽出技法、電子線保護膜作製、カーボン支持膜作
　 製など多用途で活躍。

サンプルにダメージを与えない。
クリーニングレベルのエッチングが可能です。

●細かくデリケートなサンプルも高熱や有機溶媒を用いることなく、大
　 気プラズマによってソフトに不純物炭素やポリマーを除去することが
　 できます。
●ラボレベルで大気プラズマ処理でき、マイクロ流路作製などの表面
　 改質が可能です。
●低出力でも安定した放電。約５分程度で排気、放電処理を完了でき
　 ます。

FE・分析電子顕微鏡試料クリーナー

●分析に影響を与える不純物をRFプラズマによって均一にクリーニ
　 ングできる、コンパクトなテーブルトップ型FE・分析電子顕微鏡試
　 料クリーナーです。
●試料をホルダーごとクリーニングします。またチャンバーが広いた
　 め、他のコンタミネーション源となる可能性のあるものもクリーニン
　 グできますので、完全なコンタミネーションフリーが実現できます。
●パワー制御による、自由な条件設定が可能です。また、Vdcモニ
　 ターにより正確に条件が把握できます。
●Ar,O2,CF4,Cl2,CCl4他の活性ガスに対応します。

試料に熱ダメージやイオンダメージを与えません

●RFプラズマエッチング方式と各種活性ガスを使用し、出力を無段
　 階調整（0〜150W）出来る唯一の製品です。
●ロータリーポンプだけでもコンタミの無いクリーニング・エッチング
　 が可能ですが、他のオイルフリー真空ポンプにも対応可能な高機
　 能機種です。
●オプションの金属ベルジャー装着でサンプルホルダーごとプラズマ
　 クリーニング可能です。

●電極膜付けなどの成膜実験に最適。
●マグネトロンヘッドの採用により、粒度の細かいコーティング及び
　 熱によるダメージを与えないスパッタリング。
●ターゲットをすばやく交換できるので、簡単にいろいろなターゲット
　 が使用できます。

0.5nmの超微粒子コーティング

●小型のスパッターコーターで電極膜の作製など可能です。
●ペルチェ素子冷却スパッターヘッド搭載によりチタンやクロム等の
　 高融点金属のスパッタリングも可能です。
●クロムターゲットの場合、粒子サイズは0.5nm以下です。

ベンチトップ型ターボ仕様となりました。

●中性又はイオンビームを手軽に選択できます。
●中性粒子でシニングするため、イオンシニングのようなチャージアッ
　 プによる試料ダメージやシニングの選択性、最表面層の組成変化
　 がありません。

各種素材の親水化処理が可能です。

●AFM用プローブ等の表面上の汚染物質をＵＶオゾンクリーニングし
　 ます。
●プローブのクリーニングにより、AFM本来の高分解能画像を常に得
　 ることができます。

SEM、TEM試料をミクロン精度で研磨、薄片化加工できます。

●断面観察したい微小部位を正確に面出しできます。
●光顕あるいはSEMで断面観察した試料部位そのものを1μ以下に
　 まで研磨、薄片化でき、TEM観察標本を容易に作製できます。
●研磨、薄片化工程中に生じる試料研磨面の片べりを修正できます。
●TEM観察標本作製のためのイオンシニング時間を15分以下と大
　 幅に短縮できます。

●試料の大きさ、厚み設定、研磨角度調節など用途に応じて各種取
　 り揃えております。
●マイクロメーター制御、シーム制御があります。
●試料径：1インチ、2インチタイプがあります。